Huichapan, Hgo., 11 de mayo de 2026. TecNM/DCD. Jaqueline Marmolejo Quintanar, Juan Carlos Rodríguez Uribe y Zaira Betzabeth Trejo Torres, docentes del Instituto Tecnológico Superior de Huichapan (ITESHU), encabezan el proyecto de investigación “Propuesta de diseño, desarrollo y evaluación técnica de un sistema de plafón interior no estructural a base de material reciclado y un aglutinante”.
La propuesta, iniciativa financiada por el Tecnológico Nacional de México, tiene como objetivo diseñar y evaluar un sistema de plafón interior elaborado con materiales reciclados y compuestos cementicios, buscando generar alternativas sustentables, funcionales y de bajo costo para espacios educativos y públicos.
En el desarrollo del proyecto colaboran estudiantes del programa educativo de Arquitectura, quienes participan como apoyo en distintas etapas de investigación y elaboración de prototipos, fortaleciendo su formación académica mediante actividades con enfoque científico y sustentable.
La investigación contempla diversas fases, entre ellas la revisión documental, selección y tratamiento de materiales reciclados, diseño de mezclas, elaboración de prototipos y pruebas experimentales para evaluar propiedades como resistencia, comportamiento ante la humedad, aislamiento acústico y desempeño térmico.
Los trabajos se desarrollan en los laboratorios de física, química y arquitectura del ITESHU, fortaleciendo la investigación aplicada y el desarrollo de proyectos orientados a la innovación y el cuidado del medio ambiente.
Entre los resultados esperados destaca la validación técnica del uso de materiales reciclados en sistemas de plafón interior no estructural, así como la generación de alternativas constructivas que contribuyan a disminuir el impacto ambiental y mejorar las condiciones de confort en espacios educativos.
El Tecnológico Nacional de México continúa impulsando proyectos de investigación que promueven la innovación, el aprovechamiento sustentable de recursos y el desarrollo de soluciones con impacto social y ambiental.
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